以創(chuàng)新為先導(dǎo)，聚焦EUV極紫外/X射線光學(xué)器件的研發(fā)- 捷克RITE
隨著EUV/XUV產(chǎn)業(yè)及激光驅(qū)動X射線源研究的蓬勃發(fā)展，光刻和高分辨顯微成像等應(yīng)用對于極紫外、X射線光學(xué)元件提出了更高的需求，RITE掌握了先進獨特的光學(xué)復(fù)制技術(shù)，可以提供高精度、高性能的EUV/X-RAY反射式光學(xué)鏡片及解決方案。
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先進的復(fù)制技術(shù)及超光滑加工技術(shù)
根據(jù)X射線和物質(zhì)作用的不同原理和機制，目前主流的X射線光學(xué)組件可以大致分為衍射、折射、吸收、反射四類。之前我們有對基于衍射的多層膜鏡片做了簡單介紹，有興趣的可以戳這個鏈接：X射線多層膜在靜態(tài)和超快X射線衍射中的應(yīng)用。
? 超高表面精度和更低的表面粗糙度
平均粗糙度 Ra (nm) | 均方根 RMS (nm) | |
10 μm × 10 μm | 0.72 | 0.91 |
1 μm × 1 μm | 0.27 | 0.34 |
Ru鍍層的微觀粗糙度
面形誤差精度
使用Taylor – Hobson輪廓儀測量,拋光前測得RMS (Δr) = 1.14 μm，拋光后測得RMS (Δr) = 0.109 μm!
? 更高的反射率
金 vs. 釕
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關(guān)于RITE
隨著EUV/XUV產(chǎn)業(yè)發(fā)展如火如荼，X射線各領(lǐng)域的研究也不斷深入，RITE專為這兩大類應(yīng)用提供性能優(yōu)越的光學(xué)元件。憑借自身在X射線、極紫外光學(xué)領(lǐng)域多年的積累，除了承擔(dān)母公司理學(xué)在EUV/XUV、軟X射線、硬X射線等設(shè)備的研發(fā) (R&D) 任務(wù)以外，RITE秉承著開放合作的理念，也直接向全球的工業(yè)客戶、實驗室科研用戶提供標(biāo)準(zhǔn)或定制型EUV/X-RAY光學(xué)鏡片和高分辨間接X射線探測器等。
RITE Laboratory
EUV Replicated Optic
? 極紫外、X射線復(fù)制鏡
光譜范圍: EUV (60 – 200 eV)；軟X射線（200-2000eV）；硬X射線 (2 – 10 KeV)
鏡片面形: 橢球鏡（點對點聚焦），拋物面鏡（平行光束），也可根據(jù)需求定制其他面形
光學(xué)面材料: Au, Ni, Ru等
R ≥50%
典型表層粗糙度: Ra≈1- 2 nm
典型尺寸: 直徑D = 5 – 250 mm；長度L=10-140mm
成像幾何
橢球面光學(xué)元件
Wolter la
拋物面光學(xué)元件
Wolter lb
各類復(fù)制鏡
橢球鏡, Au active surface, L-100mm
各種不同規(guī)格尺寸的復(fù)制鏡
Wolter鏡, Au active surface, L=100 mm
微反射鏡
嵌套鏡
橢球鏡, Ni active surface, L＝100mm
優(yōu)秀性能
150 μm圓光斑，水窗，鏡長L = 60毫米，鍍鎳
300 μm圓光斑，
能量= 600 eV,
鏡長L = 100 mm，鍍鎳
300 μm圓光斑，
能量= 100ev,
鏡長 L = 100mm，鍍金
對于光學(xué)復(fù)制技術(shù)的擴展，RITE可以設(shè)計和生產(chǎn)多箔光學(xué)鏡片(MFO)。
?大視場：max ±60° ?襯底：玻璃或硅 ?開口孔徑：3x3 mm - 300x300 mm ?箔層厚度：30μm – 1 mm ?表層材料: Au, Ni, Mo, Pt, W, ... |  |
加工鏡片示例
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焦點細(xì)節(jié) |
激光驅(qū)動氙氣和氪氣極紫外輻射的聚焦光斑強度分布。 |
幾何構(gòu)型 |
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| 聚焦細(xì)節(jié)(FWHM = 19 arcmin)，光源80μm，8kev, MEDIPIX2探測器(CTU)。 |
? 應(yīng)用方向
水窗顯微
X射線光電子能譜
X射線顯微成像
天文
? 參考用戶
德國BESSY 光源
美國CYMER公司
德國哥廷根激光實驗室
美國海軍研究實驗室
美國國家標(biāo)準(zhǔn)與技術(shù)研究院
美國加州大學(xué)
日本NTT
韓國LG
荷蘭國家應(yīng)用科學(xué)研究院
愛爾蘭都柏林大學(xué)
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