“2023雨果·蓋革獎(jiǎng)”-10mW高次諧波極紫外/XUV光源
如要要在電磁波譜上選出在當(dāng)下、在未來最亮眼的一抹顏色,那一定就是極紫外光(EUV)。在這種特別短波光譜范圍內(nèi)的 EUV 光的幫助下,有可能生產(chǎn)出比以往更小、更強(qiáng)大的芯片。但進(jìn)一步的研究面臨一個(gè)問題:使用類激光的 EUV 光的實(shí)驗(yàn)通常只能在昂貴的大型研究設(shè)施中進(jìn)行。
現(xiàn)在,弗里德里希席勒大學(xué)的科學(xué)家 Robert Klas 開發(fā)了一種緊湊型的極紫外激光模塊,有助于以更為經(jīng)濟(jì)的方式產(chǎn)生 EUV 光,這為半導(dǎo)體制造和顯微鏡方面的潛在應(yīng)用帶來了更多的可能。Klas 也因此榮獲了“雨果·蓋革獎(jiǎng)”。
Robert Klas 在他的博士論文中開發(fā)了一種用于產(chǎn)生類似激光的 EUV 光的緊湊型模塊。到目前為止,產(chǎn)生這樣的 EUV 光需要依靠同步輻射,而 Klas 現(xiàn)在提出了一種新的有效的方法,在一個(gè)實(shí)驗(yàn)室工作臺(tái)大小的設(shè)施中產(chǎn)生類激光的 EUV 光。Klas 的博士論文基于耶拿弗里德里希席勒大學(xué)、耶拿亥姆霍茲研究所和弗勞恩霍夫應(yīng)用光學(xué)與精密工程研究所合作,提供了迄今為止實(shí)驗(yàn)室規(guī)模上最強(qiáng)大的類激光的 EUV 源,平均功率為 10 毫瓦—這比他開始攻讀博士學(xué)位時(shí)最先進(jìn)的同類系統(tǒng)功率高出 100倍。

Robert Klas 獲“2023雨果·蓋革獎(jiǎng)”
實(shí)驗(yàn)室規(guī)模的EUV光源,功率提高100倍
在他的工作中,Klas 在解決激光光學(xué)中的一個(gè)重大挑戰(zhàn)。一個(gè)重要的原理是,波長(zhǎng)越短,產(chǎn)生激光輻射就越困難。在他的研究波長(zhǎng)范圍是 10 到 50nm。1nm 相當(dāng)于 1mm 的百萬(wàn)分之一。簡(jiǎn)而言之,極紫外光極難像激光那樣直接產(chǎn)生。
為了解決這個(gè)問題,Klas 使用了高功率超短脈沖光纖激光器,通過高諧波產(chǎn)生將他們轉(zhuǎn)換成 EUV 光。為此,Klas 將高功率激光聚焦在惰性氣體中。在這個(gè)過程中,電子在幾百阿秒內(nèi)被加速。一個(gè)阿秒是一百萬(wàn)億分之一秒,Klas 用一個(gè)比較來說明這個(gè)數(shù)量級(jí):“一阿秒之于一秒,就像一秒之于我們的世界年齡?!痹谶@個(gè)難以想象的短時(shí)間內(nèi)電子被加速,隨后與母離子重新結(jié)合而產(chǎn)生寶貴的 EUV 光。
主要的挑戰(zhàn)是如何相干地疊加釋放的輻射,也就是說,如何控制它,使其在 EUV 光譜中所謂的波峰疊加起來,最終可以被束成一束激光。通過正確選擇激光參數(shù)和氣體密度,Klas 成功地以高效的方式產(chǎn)生了具有類似激光參數(shù)的 EUV 輻射。與高功率激光器相結(jié)合,EUV 的性能顯著提高。

使用高功率超短脈沖激光器

由 Robert Klas 開發(fā)的實(shí)驗(yàn)室級(jí) EUV 光源
大功率 EUV 光源為高分辨率顯微鏡樹立了新標(biāo)準(zhǔn)
Klas 相信,他的工作將極大地促進(jìn) EUV 光的進(jìn)一步研究和應(yīng)用:“未來,我的博士論文成果有望推動(dòng)芯片的能量和存儲(chǔ)效率以及生物學(xué)和醫(yī)學(xué)許多關(guān)鍵領(lǐng)域的發(fā)展?!?/span>Klas 已經(jīng)在實(shí)驗(yàn)室規(guī)模上測(cè)試了他的新型 EUV 源的第一個(gè)潛在應(yīng)用。他已經(jīng)將注意力轉(zhuǎn)向無透鏡顯微鏡,特別是在幾納米范圍內(nèi)的成像。
“在曝光波長(zhǎng)為 13.5nm 的情況下,我們已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了 18nm 的分辨率,”相比之下,傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的分辨率僅略低于 500nm?!霸谝粋€(gè)實(shí)驗(yàn)中,我們實(shí)現(xiàn)了一個(gè) 100 x 100mm 的視場(chǎng)。這意味著我們可以在一張圖片中覆蓋一個(gè)足球場(chǎng)的大小,并在其中找到一枚硬幣。
使用基于 EUV 的顯微鏡,可以生成正在研究的樣品的彩色圖像。通過這種方式,研究人員可以觀察細(xì)胞內(nèi)部,并區(qū)分不同元素或不同物質(zhì)的比例,如碳、脂質(zhì)等?!霸谌绱烁叩姆直媛氏?,這將是一件新鮮事,” Klas 強(qiáng)調(diào),“利用我們的技術(shù),我們可以用它來推進(jìn)未來的生物學(xué)和醫(yī)學(xué)研究,希望能研究不同類型的病毒。在某種程度上,我們還希望能夠使用這種方法對(duì)直徑約為 2nm 的 DNA 進(jìn)行成像。”
用于EUV光刻技術(shù)制造半導(dǎo)體的質(zhì)量保證
Klas 開發(fā)的技術(shù)在 EUV 光刻領(lǐng)域還有另外的潛在應(yīng)用。在這里,微型芯片是用 EUV 制造的。半導(dǎo)體行業(yè)已經(jīng)利用這一工藝將 100 多億個(gè)晶體管應(yīng)用到指甲大小的芯片上。
相關(guān)閱讀
這一次我們帶來了激光驅(qū)動(dòng)高亮EUV光源!
13.5nm Mo/Si 多層膜、高性能極紫外光學(xué)元件:實(shí)測(cè)反射率高達(dá)70%
Hi, LOTTE! | 全新封裝設(shè)計(jì),深度制冷至-100℃,全幀轉(zhuǎn)移內(nèi)真空相機(jī)CCD相機(jī)

免責(zé)聲明: