Talint EDU: 模塊化、高性價(jià)的X射線相襯、暗場(chǎng)成像套件
傳統(tǒng)的 X 射線吸收成像相比，X 射線相位襯度成像能夠?yàn)?/span>輕元素樣品提供更高的襯度，特別適合用于對(duì)軟組織和輕元素構(gòu)成的樣品進(jìn)行成像。
目前，主要的 5 類相襯成像方式中，大部分對(duì)光源的相干性要求極高，只能在同步輻射光源或者借助微焦點(diǎn)X射線源實(shí)現(xiàn)。而光柵法相襯成像，經(jīng)過十多年的發(fā)展，已經(jīng)成為在實(shí)驗(yàn)室實(shí)施相襯成像實(shí)驗(yàn)的主流技術(shù)路線。但是，高深寬比和大視場(chǎng)光柵的制作一直是困擾研究人員的一個(gè)痛點(diǎn)，LIGA 技術(shù)的出現(xiàn)及成熟，使得制作此類的光柵的制作變得更加的容易及可靠。
基于 X 射線相襯成像的光柵利用 Talbot 自成像效應(yīng)來獲取有關(guān) X 射線因折射和散射而產(chǎn)生的微小角度偏轉(zhuǎn)的信息。這在醫(yī)學(xué)成像到材料研究等各個(gè)領(lǐng)域都有潛在的應(yīng)用。
但是對(duì)于剛進(jìn)入這一研究領(lǐng)域的科研工作者或者想單純快速相襯圖片的用戶來說，繁瑣的光柵參數(shù)模擬、全新開模制作光柵價(jià)格昂貴、與此同時(shí)精密平移臺(tái)的選擇及精密調(diào)節(jié)都將耗費(fèi)大量的精力。
TALINT EDU 套件
Microworks 的 TALINT- EDU 系統(tǒng)是一種緊湊、物美價(jià)廉的 TALbot 干涉儀套件。它是 X 射線 Talbot-Lau 干涉儀的巧妙簡(jiǎn)化形式，包括所有必要的硬件來建立和微調(diào)干涉儀，TALINT EDU 是一款靈活而精確的 X 射線光柵干涉儀，適用于 X 射線成像領(lǐng)域的研究人員，并且無需購買新的光源或探測(cè)器，TALINT EDU 可以輕松集成到現(xiàn)有的 X 射線設(shè)置中，組裝過程不到30分鐘。
這款干涉儀揭示了看不見的 TALINT 影像技術(shù)，首先體現(xiàn)在成像模式的多功能性——通過相位步進(jìn)步驟來獲得三種成像模式應(yīng)用：吸收成像、相襯成像和暗場(chǎng)成像。相襯是由折射引起的，而暗場(chǎng)是由 X 射線的散射引起的。這增強(qiáng)了襯度，特別是對(duì)于低原子序數(shù)，例如聚合物和碳復(fù)合材料。
TALINT EDU包裝一覽
優(yōu)勢(shì)一： 高對(duì)比度成像
提高 X 射線成像的精度和效率
飛蛾的 X 射線圖像，翅展 5 cm
吸收像（b）顯示了飛蛾的整體形狀，但很難看到翅膀內(nèi)部的細(xì)節(jié)；使用 TALINT EDU 的相襯像(c) 和暗場(chǎng)像 (d) ，才真正觀察到內(nèi)部的精細(xì)結(jié)構(gòu)。
此處和下文顯示的所有 X 射線圖像均使用 Talint EDU 套件，光柵周期為 4.8 μm，能量 21 keV。X 射線系統(tǒng)：光源峰值能量 21 keV 探測(cè)器像素尺寸 75 μm 。
優(yōu)勢(shì)二：多功能的應(yīng)用
TALINT 是一種靈活的解決方案，可用于研究廣泛的樣本范圍，包括生物、醫(yī)學(xué)、地質(zhì)、電子、技術(shù)等。
5 厘米塑料片的 X 射線圖
優(yōu)勢(shì)三：檢測(cè)極小的缺陷
研究中的敏感檢測(cè)缺陷和不均勻性
7cm 塑料片的 X 射線圖像
一張經(jīng)過反復(fù)彎折的塑料片的照片。其中，相襯圖像(c)十分清晰地顯示了由彎曲引起的缺陷。
5 厘米蜻蜓幼蟲X射線圖像
傳統(tǒng)的成像技術(shù)很難捕捉到某些標(biāo)本的復(fù)雜細(xì)節(jié)，例如蜻蜓幼蟲的極薄的外部骨骼。吸收和襯度比較低，信噪比 (SNR)較差。然而，TALINT EDU的暗場(chǎng)圖(d) 在這類場(chǎng)景中就發(fā)揮了作用，揭示了標(biāo)本以前看不見的最細(xì)微的細(xì)節(jié)。
2cm 蠶繭 X 射線圖像
使用 TALINT EDU 得到的暗場(chǎng)圖，可觀察蠶繭的表面結(jié)構(gòu)和圍繞它的精致絲線；相襯成像圖像顯示了蠶體內(nèi)沿其長(zhǎng)度延伸的身體部分和精細(xì)結(jié)構(gòu)的邊緣檢測(cè)能力增強(qiáng)。
2 厘米玉米種子的 X 射線圖像
借助 TALINT EDU，玉米種子的復(fù)雜細(xì)節(jié)可以在相襯和暗場(chǎng)圖像中顯示出來。
TALINT EDU主要參數(shù)
光柵組選項(xiàng) （含3塊光柵）
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Microworks
德國 Microworks GmbH 基于其獨(dú)特的 LIGA 技術(shù)，向廣大科研用戶提供定制化的微結(jié)構(gòu)加工服務(wù)。其中，它的X射線透射光柵在相襯成像領(lǐng)域，有著極高的聲譽(yù)。Microworks為X射線無損檢測(cè)（NDT）提供標(biāo)準(zhǔn)化和定制產(chǎn)品。在微納米技術(shù)領(lǐng)域，Microworks代表著高精度，其最高縱橫比和精度可以遠(yuǎn)低于 1 μm。
北京眾星聯(lián)恒科技有限公司作為 Microworks 的中國大陸全權(quán)代理商，為中國用戶提供所有的售前咨詢，銷售及售后服務(wù)，同時(shí) TALINT EDU 干涉儀套件目前我們開放國內(nèi)試用, 如果您想體驗(yàn)這款模塊化、操作簡(jiǎn)易的 X 射線相襯、暗場(chǎng)成像套件, 歡迎聯(lián)系我們。
