用于光子計(jì)數(shù)X射線探測(cè)器的新型Cr補(bǔ)償GaAs傳感器
在過(guò)去的十年中,X 射線光子計(jì)數(shù)型探測(cè)器已經(jīng)被證實(shí)是 X 射線成像領(lǐng)域的一項(xiàng)顛覆性技術(shù),其主要特點(diǎn)是面積大、像素?cái)?shù)量多、讀出時(shí)間短、動(dòng)態(tài)范圍寬、無(wú)暗電流、無(wú)讀出噪聲以及出色的點(diǎn)擴(kuò)展函數(shù)。隨著高原子序數(shù)半導(dǎo)體(如CdTe、CdZnTe、GaAs)的制造技術(shù)不斷改進(jìn),如今已達(dá)到探測(cè)器級(jí)質(zhì)量,使其用作直接探測(cè)層成為可能,將良好的探測(cè)靈敏度擴(kuò)展到更高的 X 射線能量,從而為 X 射線成像領(lǐng)域的發(fā)展提供了更多的可能性。
通常這些半導(dǎo)體材料的幾個(gè)重要性能需要被考慮,以此決定適用于哪一種應(yīng)用領(lǐng)域,包括晶體質(zhì)量、平均原子序數(shù)、平均電離能、電阻率、載流子遷移率、能帶間隙、熒光問(wèn)題等等。下圖總結(jié)了三種半導(dǎo)體材料的相關(guān)性能并給出了吸收效率曲線。GaAs 與 Si 相比有著更高的平均原子序數(shù),說(shuō)明對(duì)中、高能射線的吸收效率更好,更寬的能帶間隙意味著更低的暗電流以及更好的耐輻照性,更快的電子遷移率代表著更好的電荷收集效率。GaAs 與 CdTe 相比熒光概率更小且熒光光子距離短(GaAs 50%, 11-12 keV vs CdTe 85%, 26-31 keV),且更優(yōu)的輻照穩(wěn)定性意味著更高的成像質(zhì)量。

制造新型 Cr 補(bǔ)償 GaAs 傳感器首先需要由通過(guò) LEC (Liquid Encapsulated Czochralski)法生長(zhǎng) n 型 GaAs 晶圓,獲得 3 英寸或 4 英寸的高質(zhì)量晶圓。GaAs 晶圓再經(jīng)退火、拋光、光刻、濺射、切割、倒裝焊等步驟制成新型 Cr 補(bǔ)償 GaAs 探測(cè)器,如下圖所示。與傳統(tǒng)的利用勢(shì)壘結(jié)構(gòu)的空間電荷區(qū)的 GaAs 半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)不同,新型 Cr 補(bǔ)償 GaAs 半導(dǎo)體通過(guò)高溫?cái)U(kuò)散將 Cr 摻雜到 n 型 GaAs 的外延層。在經(jīng)過(guò)補(bǔ)償?shù)陌雽?dǎo)體中,耗盡區(qū)的概念不再有效,因?yàn)殡妶?chǎng)分布不再受空間電荷區(qū)中離子濃度的影響,而僅由半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中電阻值分布的均勻性決定,電場(chǎng)在整個(gè)材料中基本上是均勻的。由于電荷輸運(yùn)通常受到引起額外噪聲的電荷捕獲的影響,如果材料不是完美的晶體,晶界和位錯(cuò)可能會(huì)使電荷偏離其正常的傳輸模式而引起空間畸變。目前的 Cr 補(bǔ)償工藝已成功應(yīng)用于厚度達(dá) 1 mm 的 GaAs 傳感器,其電阻率值在室溫下超過(guò) 109 Ω*cm。

目前,Advacam 原傳感器技術(shù)團(tuán)隊(duì)-Advafab 公司傳感器制造業(yè)務(wù)全線升級(jí),除了能制造高質(zhì)量的 Si 和 CdTe 傳感器之外,Advafab 還研發(fā)了新型 Cr 補(bǔ)償 GaAs 傳感器。我們可向客戶提供高質(zhì)量像素探測(cè)器模塊產(chǎn)品和輻射傳感器制造及半導(dǎo)體集成服務(wù)的全線半導(dǎo)體解決方案:Top-Unistar和Advacam聯(lián)合推出光子計(jì)數(shù)、像素化X射線探測(cè)器探測(cè)模塊加工解決方案
由于 GaAs 的高電阻率,傳感器采用無(wú)保護(hù)環(huán)設(shè)計(jì),這樣的無(wú)邊緣 GaAs 傳感器是大面積無(wú)縫拼接的必要核心部件。在讀出芯片和傳感器連接過(guò)程中,采用低溫 In-Sn 焊點(diǎn),使得探測(cè)器模塊獲得最好的連接效果,提高了工作像素的良品率。如下圖所示,Advafab 利用 500μm 的 GaAs 傳感器和 Timepix 讀出芯片制成的探測(cè)模塊對(duì) PCB 和花朵成像,能清晰拍攝出它們的內(nèi)部細(xì)節(jié)。

得益于新型 Cr 補(bǔ)償 GaAs 傳感器適中的平均原子序數(shù)、較快的電子遷移率、輻照穩(wěn)定性以及低熒光產(chǎn)額,它在高通量 X 射線成像和醫(yī)學(xué)成像等領(lǐng)域有著重要的研究?jī)r(jià)值。特別是相較于其他高原子序數(shù)材料 CdTe 和 CdZnTe,GaAs 表現(xiàn)出更強(qiáng)的輻照穩(wěn)定性(更少的極化)。Advafab 已經(jīng)利用 500μm 的 GaAs 傳感器和 Timepix2 讀出芯片制成的探測(cè)模塊進(jìn)行了初步測(cè)試,在長(zhǎng)時(shí)間受高通量 X 射線輻照下,探測(cè)器整體呈現(xiàn)出較好的均勻性和輻照穩(wěn)定性,且信噪比的中值高達(dá) 2000,如下圖所示。只有很少一部分像素的計(jì)數(shù)值下降 10-20%,可能是由于長(zhǎng)時(shí)間輻照后俘獲的載流子累積導(dǎo)致的電場(chǎng)退化,以此造成計(jì)數(shù)率降低。(邊緣 mask 區(qū)域是良品率問(wèn)題而出現(xiàn)的像素缺陷)

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司作為捷克Advacam公司中國(guó)區(qū)的總代理,也在積極推廣Timex / Medipix芯片技術(shù),并探索和推廣光子計(jì)數(shù)X射線探測(cè)技術(shù)在中國(guó)市場(chǎng)的應(yīng)用,目前已有眾多客戶將MiniPIX、AdvaPIX和WidePIX成功應(yīng)用于空間輻射探測(cè)、X射線小角散射、X射線光譜學(xué)、X射線應(yīng)力分析和X射線能譜成像等領(lǐng)域。同時(shí)我們也有數(shù)臺(tái)搭載Timpix、Timepix3芯片的MiniPIX探測(cè)器樣機(jī)、Medipix3 芯片的WidePIX 1*5 CdTe探測(cè)器樣機(jī),我們也非常期待對(duì)我們探測(cè)器感興趣或基于探測(cè)器應(yīng)用有新的idea的老師聯(lián)系我們,我們可以一起嘗試做更多的事情。
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