X射線深度光刻微加工技術(shù):LIGA
LIGA 是德文的制版術(shù)Lithographie,電鑄成形Galvanoformung 和注塑Abformung 的縮寫。自20世紀(jì)80年代德國卡爾斯魯厄原子核研究所為制造微噴嘴創(chuàng)立LIGA技術(shù)以來,對其感興趣的國家日益增多,德、日、美相繼投入巨資進(jìn)行開發(fā)研究。該技術(shù)被認(rèn)為是最有前途的三維微細(xì)加工方法,具有廣闊的應(yīng)用前景。與傳統(tǒng)微細(xì)加工方法相比,用LIGA技術(shù)進(jìn)行超微細(xì)加工有如下特點(diǎn):
1.可制造有較大深寬比的微結(jié)構(gòu)。
2.取材廣泛,可以是金屬、陶瓷、聚合物、玻璃等。
3.可制作任意復(fù)雜圖形結(jié)構(gòu),精度高。
4.可重復(fù)復(fù)制,符合工業(yè)上大批量生產(chǎn)要求,成本低。
德國卡爾斯魯厄Karlsruhe是LIGA技術(shù)的發(fā)源地,來自Karlsruhe技術(shù)研究所與microworks GmbH的定制化高縱橫比微結(jié)構(gòu)。LIGA工藝制造的微結(jié)構(gòu)聚合物和金屬零件在x射線光學(xué)領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用,包括在在科研機(jī)構(gòu)和工業(yè)領(lǐng)域,尤其在光柵法X相襯成像領(lǐng)域。
產(chǎn)品特點(diǎn):
高縱橫比(>100)金屬或聚合物
立角約90°的平行側(cè)壁(1mm高的結(jié)構(gòu)偏差~1μm
側(cè)壁光滑(表面粗糙度Ra 在10 nm范圍)
橫向精度在數(shù)微米范圍(數(shù)厘米距離下)
通過雙次曝光可得到多種側(cè)壁角度
參考文獻(xiàn)
德國 Microworks X射線光柵、微結(jié)構(gòu)-Flyer
主要應(yīng)用:
X射線光柵 (Au ,Ni)
X射線棱鏡(SU-8)
X射線狹縫/針孔(Au)
X射線準(zhǔn)直器 (Au)
高級微結(jié)構(gòu)零部件(Au)
公司介紹:Microworks
德國Microworks 公司成立于 2007年, 是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)微技術(shù)研究所 (IMT) 衍生的子公司。通過使用X 射線和激光LIGA技術(shù),能為廣大科研用戶提供高度定制化的透射光柵和高精度微結(jié)構(gòu)方案,在光柵法相襯成像領(lǐng)域,具有很好的口碑。在微納米技術(shù)領(lǐng)域,Microworks代表著高精度。在一個晶片內(nèi)或者從一個晶片到另一個晶片,其高縱橫比和精度可以遠(yuǎn)低于1μm。其產(chǎn)品涵蓋相襯成像光柵、微齒輪、雙曲型電極、精密篩、近紅外濾波器(選頻濾波器)、微彈簧,RF等。
點(diǎn)擊前往:X射線光柵 光束截補(bǔ)器 Yxlon標(biāo)準(zhǔn)分辨率測試卡-高襯度
相關(guān)介紹:當(dāng)LIGA技術(shù)與光柵法X射線 相襯成像相遇
產(chǎn)品特點(diǎn):
高縱橫比(>100)金屬或聚合物
立角約90°的平行側(cè)壁(1mm高的結(jié)構(gòu)偏差~1μm
側(cè)壁光滑(表面粗糙度Ra 在10 nm范圍)
橫向精度在數(shù)微米范圍(數(shù)厘米距離下)
通過雙次曝光可得到多種側(cè)壁角度
主要應(yīng)用:
X射線光柵 (Au ,Ni)
X射線棱鏡(SU-8)
X射線狹縫/針孔(Au)
X射線準(zhǔn)直器 (Au)
高級微結(jié)構(gòu)零部件(Au)