產(chǎn)品介紹:
高次諧波實驗中,將XUV與NIR分離需要高效率,高損傷閾值以及寬帶寬的二向色鏡。我們可根據(jù)你的目標能量,提供標準款或定制型XUV二向色鏡。與Brewster角分光鏡和薄膜濾光片相比,基于多介質(zhì)AR涂層的二向色鏡(DM)具有更高的傷害閾值。此外,這款鏡片還能用于XUV和NIR的光束組合。
規(guī)格參數(shù):
標準款:
設計: DM-30/800-2010 入射角:78° 極化: p NIR反射率: ~2%@800 nm+/- 50nm XUV反射率: ~45%@30nm 涂層: 介電質(zhì)增強現(xiàn)實(AR) 襯底材料: 熔石英 尺寸: 直徑2,最小厚度10mm | |
設計: DM-20/800-2010 入射角:78° 極化: p NIR反射率: ~2%@800 nm+/- 50nm XUV反射率: ~60%@20nm 涂層: 介電質(zhì)增強現(xiàn)實(AR) 襯底材料: 熔石英 尺寸: 直徑2″,厚度10mm |
定制規(guī)格參數(shù)
自動光學檢查 | 75°-87° |
---|---|
極化 | s,p |
減反射波長 | 400 nm,800 nm,1000 nm,etc. |
高反射波長 | 3-5nm,13nm,30nm,60nm,etc. |
基板材料 | 熔石英 |
基板尺寸 | 直徑為1″-4″ |
*反射率隨入射角、目標波長和極化變化而變化。
標準款:
設計: DM-30/800-2010 入射角:78° 極化: p NIR反射率: ~2%@800 nm+/- 50nm XUV反射率: ~45%@30nm 涂層: 介電質(zhì)增強現(xiàn)實(AR) 襯底材料: 熔石英 尺寸: 直徑2,最小厚度10mm | |
設計: DM-20/800-2010 入射角:78° 極化: p NIR反射率: ~2%@800 nm+/- 50nm XUV反射率: ~60%@20nm 涂層: 介電質(zhì)增強現(xiàn)實(AR) 襯底材料: 熔石英 尺寸: 直徑2″,厚度10mm |
定制規(guī)格參數(shù)
自動光學檢查 | 75°-87° |
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極化 | s,p |
減反射波長 | 400 nm,800 nm,1000 nm,etc. |
高反射波長 | 3-5nm,13nm,30nm,60nm,etc. |
基板材料 | 熔石英 |
基板尺寸 | 直徑為1″-4″ |
*反射率隨入射角、目標波長和極化變化而變化。