TEUS-LPP 緊湊型激光驅(qū)動(dòng)等離子體極紫外光源基于快速旋轉(zhuǎn)液態(tài)金屬靶，這種新型LPP靶結(jié)合了傳統(tǒng)的碎片減緩技術(shù)，是清潔極紫外光源的最佳解決方案?；?/span>其亮度高、潔凈、能量抖動(dòng)小等特點(diǎn)，非常適合大規(guī)模生產(chǎn)中基于 EUV 顯微的掩模版檢測(cè)等需要高亮度 EUV 光源的應(yīng)用場(chǎng)景，或者小規(guī)模光刻生產(chǎn)與實(shí)驗(yàn)等應(yīng)用方向。經(jīng)過(guò)數(shù)臺(tái) TEUS 的交付，已經(jīng)驗(yàn)證該光源的性能及穩(wěn)定性。

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1、緊湊型高亮極紫外光源介紹及應(yīng)用

2、用于光化圖形掩模版檢測(cè)的LPP EUV光源

特征優(yōu)勢(shì)

將液滴碎片重定向遠(yuǎn)離輸入（激光）和輸出（EUV）窗口 用于高重復(fù)率激光系統(tǒng)（高達(dá)1Mhz）的不受干擾的靶材表面 由于靶材是連續(xù)的，所需的同步最小 高亮度，高通量，優(yōu)秀的空間穩(wěn)定性 極高的正常運(yùn)行時(shí)間 高占空比，交鑰匙作業(yè)

高速轉(zhuǎn)速：液滴的重定向

高轉(zhuǎn)速允許初始速度與目標(biāo)線速度相當(dāng)?shù)囊旱蔚慕撬俣确植及l(fā)生劇烈變化

（受授權(quán)版專利保護(hù)的關(guān)鍵要素、一般原理和技術(shù)）

高旋轉(zhuǎn)速度導(dǎo)致的液滴減緩效果的演示

規(guī)格參數(shù)

* : 定義為等離子強(qiáng)度分部1/e2的直徑

**：收集鏡為系統(tǒng)選配

典型應(yīng)用

• 掩膜及表面檢測(cè)

• 圖形化掩膜檢測(cè)(PMI)

• 掩膜空間像檢測(cè)(AIMS)

• 空白掩膜版檢測(cè)(MBI)

• 材料科學(xué)

• 晶圓檢測(cè)

• 極紫外掃描光刻工藝鏈中的極紫外光學(xué)器件檢測(cè)

使用環(huán)境要求

資料文獻(xiàn)

EUV source 畫(huà)冊(cè)_2023_v1_眾星.pdf