13.5nm菲涅爾波帶片
襯度材料：SiO2 襯度材料厚度：~250nm支撐薄膜材料：Si支撐薄膜厚度：~200nm支撐薄膜透過(guò)率： 預(yù)計(jì)衍射效率>14% @13.5nm主要應(yīng)用方向：相干衍射成像掩模版檢測(cè)
- 產(chǎn)地：
- 型號(hào)：
- 品牌：
襯度材料：SiO2
襯度材料厚度：~250nm
支撐薄膜材料：Si
支撐薄膜厚度：~200nm
支撐薄膜透過(guò)率：~70%
預(yù)計(jì)衍射效率>14% @13.5nm
典型應(yīng)用：
相干衍射成像
掩模版檢測(cè)
EUV顯微成像
角分辨光電子能譜