極紫外激光干涉光刻
2025-03-27 16:31:51
unistar
- 相關(guān)產(chǎn)品：
依托尖端設(shè)備和豐富的經(jīng)驗(yàn)，我們能夠?yàn)榭蛻籼峁脑O(shè)計(jì)到成品的一站式解決方案，涵蓋電子束光刻、激光直寫、X射線光刻、雙光子聚合、極紫外激光干涉光刻、紫外光刻、電鍍等多種核心技術(shù)。產(chǎn)品線包括菲涅耳波帶片、納米級(jí)光柵、金剛石光學(xué)器件、納米分辨率測(cè)試卡、3D分辨率測(cè)試卡等。菲涅耳波帶片分辨率可低至<10nm，憑借獨(dú)特的 Ir-線倍增技術(shù)，可以獲得精確到 5nm 的 X 射線束聚焦。
極紫外激光干涉光刻
極紫外激光干涉光刻是一種利用極紫外光（通常波長(zhǎng)為13.5nm）與干涉光學(xué)技術(shù)結(jié)合的先進(jìn)微納加工方法。通過(guò)兩束或多束相干極紫外激光的干涉，形成周期性強(qiáng)度分布的光場(chǎng)，直接曝光光刻膠，在基底上生成納米級(jí)高精度圖案。適合大面積周期性結(jié)構(gòu)的高效制造。
Phable R200 光刻機(jī)
最小特征尺寸為60nm，適合大面積周期性結(jié)構(gòu)的圖案化。
支持8英寸晶圓加工，曝光均勻性優(yōu)于3%。
提供前側(cè)對(duì)準(zhǔn)和手動(dòng)疊加對(duì)準(zhǔn)功能，確保高精度加工。
典型應(yīng)用
大面積納米圖案光刻，適用于大規(guī)模生產(chǎn)
衍射光柵和其他周期性結(jié)構(gòu)的制造