Talint EDU: 模塊化、高性價(jià)比的X射線相襯、暗場成像套件X射線相位襯度成像和傳統(tǒng)的X射線吸收成像相比，X射線相位襯度成像能夠?yàn)檩p元素樣品提供更高的襯度，特別適合用于對軟組織和輕元素構(gòu)成的樣品進(jìn)行成像。目前，主要的5類相襯成像方式中，大部分對光源的相干性要求極高，只能在同步輻射光源或者借助微焦點(diǎn)X射線源實(shí)現(xiàn)。而光柵法相襯成像，經(jīng)過十多年的發(fā)展，已經(jīng)成為在實(shí)驗(yàn)室實(shí)施相襯成像實(shí)驗(yàn)的主流技術(shù)路線
X射線相位襯度成像和傳統(tǒng)的X射線吸收成像相比，X射線相位襯度成像能夠?yàn)檩p元素樣品提供更高的襯度，特別適合用于對軟組織和輕元素構(gòu)成的樣品進(jìn)行成像。
目前，主要的5類相襯成像方式中，大部分對光源的相干性要求極高，只能在同步輻射光源或者借助微焦點(diǎn)X射線源實(shí)現(xiàn)。而光柵法相襯成像，經(jīng)過十多年的發(fā)展，已經(jīng)成為在實(shí)驗(yàn)室實(shí)施相襯成像實(shí)驗(yàn)的主流技術(shù)路線。
但是，高深寬比和大視場光柵的制作一直是困擾研究人員的一個痛點(diǎn)，LIGA技術(shù)的出現(xiàn)及成熟，使得制作此類的光柵的制作變得更加的容易及可靠。
基于X射線相襯成像的光柵利用Talbot自成像效應(yīng)來獲取有關(guān)X射線因折射和散射而產(chǎn)生的微小角度偏轉(zhuǎn)的信息。這在醫(yī)學(xué)成像到材料研究等各個領(lǐng)域都有潛在的應(yīng)用。
但是對于剛進(jìn)入這一研究領(lǐng)域的科研工作者或者想單純快速相襯圖片的用戶來說，繁瑣的光柵參數(shù)模擬、全新開模制作光柵價(jià)格昂貴、與此同時精密平移臺的選擇及精密調(diào)節(jié)都將耗費(fèi)大量的精力。
為了解決的這個問題，德國microworks公司推出了一套模塊化、高性價(jià)比的X射線相襯、暗場成像套件
Microworks的TALINTEDU系統(tǒng)是一種緊湊、物美價(jià)廉的TALbot干涉儀套件。它是X射線Talbot-Lau干涉儀的巧妙簡化形式，包括所有必要的硬件來建立和微調(diào)干涉儀，以及通過相位步進(jìn)步驟來獲得三種成像模式應(yīng)用：吸收成像、相襯成像和暗場成像。
在不到半小時的時間內(nèi)，它可以像另一個探測器一樣容易安裝。 對于這個簡化的系統(tǒng)來說圖 像采集是手動的，在相位步進(jìn)過程中獲得的圖像非常適合于圖像分析科學(xué)家。
| 標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格參數(shù) | 設(shè)計(jì)能量-40 keV | 設(shè)計(jì)能量-21 keV |
| 光柵周期（3塊） | 6.00μm | 4.80μm |
| G0 G2 吸收材料及高度 | 金＞150μm | 金＞50μm |
| G0 G2 光柵占空比 | 0.55（容差范圍0.5-0.6） | 0.55（容差范圍0.5-0.6） |
| G0 G2 光柵襯底 | 石墨 400μm | 石墨 400μm |
| G1 相移材料及高度 | Gold 7.7 μm (40 keV) | Nickel 7.4 μm (21 keV) |
| G1 光柵占空比 | 0.5（容差范圍0.45-0.55） | 0.5（容差范圍0.45-0.55） |
| G1 光柵基底 | 硅 200μm | 硅 200μm |
| 視場范圍（樣品） | 35mm | 35mm |
| ||
| 吸收像 | 相位像 | 暗場像 |
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相襯成像增強(qiáng)了空腔折射信號的成像襯度
暗場成像增強(qiáng)了由纖維束引起的散射信號的成像襯度
| 吸收像 | 暗場像 |
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暗場成像增強(qiáng)了發(fā)絲狀裂紋散射信號的成像襯度
| 照片 | 吸收像 | 暗場像 |
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暗場成像增強(qiáng)了殘留粉末散射信號的成像襯度
Talint EDU X射線相襯、暗場成像套件 datasheet.pdf
| Recent advances in X-ray imaging of breast tissue: From two- to three-dimensional imaging 乳腺組織x射線成像的最新進(jìn)展:從二維成像到三維成像 | 2021年3月 |
| X-ray phase imaging reaching clinical uses x射線相襯成像通向臨床應(yīng)用 | 2020年11月 |
 | Principles of Different X-ray Phase-Contrast Imaging: A Review 不同x射線相襯成像原理綜述 | 2020年11月 |
| 標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格參數(shù) | 設(shè)計(jì)能量-40 keV | 設(shè)計(jì)能量-21 keV |
| 光柵周期（3塊） | 6.00μm | 4.80μm |
| G0 G2 吸收材料及高度 | 金＞150μm | 金＞50μm |
| G0 G2 光柵占空比 | 0.55（容差范圍0.5-0.6） | 0.55（容差范圍0.5-0.6） |
| G0 G2 光柵襯底 | 石墨 400μm | 石墨 400μm |
| G1 相移材料及高度 | Gold 7.7 μm (40 keV) | Nickel 7.4 μm (21 keV) |
| G1 光柵占空比 | 0.5（容差范圍0.45-0.55） | 0.5（容差范圍0.45-0.55） |
| G1 光柵基底 | 硅 200μm | 硅 200μm |
| 視場范圍（樣品） | 35mm | 35mm |
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| 吸收像 | 相位像 | 暗場像 |
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相襯成像增強(qiáng)了空腔折射信號的成像襯度
暗場成像增強(qiáng)了由纖維束引起的散射信號的成像襯度
| 吸收像 | 暗場像 |
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暗場成像增強(qiáng)了發(fā)絲狀裂紋散射信號的成像襯度
| 照片 | 吸收像 | 暗場像 |
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暗場成像增強(qiáng)了殘留粉末散射信號的成像襯度
Talint_EDU X射線相襯、暗場成像套件 datasheet 202.06.22.pdf
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