Greateyes CCD相機(jī)有哪些圖像校正(Image Correction)方法1) 暗電流校正(Dark Current Correction)Greateyes CCD相機(jī)每行像素左右設(shè)置有幾個(gè)暗像素(啞像素),這些像素被遮蓋,不感光,用于測(cè)量曝光過程中累積的暗電流電子數(shù),以這些啞像素的暗電流電子數(shù)校正像素
2020-03-02
Greateyes CCD內(nèi)真空相機(jī)和外真空相機(jī)有何區(qū)別??jī)?nèi)真空相機(jī)和外真空相機(jī)都是通過法蘭與所測(cè)光源連接。內(nèi)真空相機(jī)整體處于真空環(huán)境中,而外真空相機(jī)只是CCD傳感器處于真空環(huán)境中。此外,內(nèi)真空相機(jī)整體處于真空環(huán)境,減少了機(jī)身到CCD傳感器之間的熱傳導(dǎo),因此,內(nèi)真空相機(jī)可冷卻到~-90℃,而外真空相機(jī)冷卻到~-80℃,即內(nèi)真空相機(jī)受外部環(huán)境溫度的影響較小。Greateyes CCD相機(jī)設(shè)備像素與軟
2020-03-02
Timepix 3 像素布局、工作模式和像素結(jié)構(gòu)像素布局Timepix 3與Medipix 3相同,像素矩陣也是256 x 256方陣。為了簡(jiǎn)化高精度時(shí)間戳的實(shí)現(xiàn)和像素坐標(biāo)的獲?。ü庾訐糁形恢茫?,256列像素被分為128個(gè)雙列,每個(gè)雙列又分成64個(gè)超像素(SuperPixel,由4×2=8個(gè)55μm×55μm 像素構(gòu)成)。超像素示意圖和像素地址編碼如下:其中EoC_address為雙列地址(128
2020-03-02
高清 X 射線熒光 (HDXRF) 的優(yōu)點(diǎn)?打印?XOS 將HDXRF技術(shù)應(yīng)用于玩具和消費(fèi)品中的管制元素的快速檢測(cè)高清 X 射線熒光 (HDXRF) 是新一代管制元素檢測(cè)技術(shù),可幫助制造商和監(jiān)管機(jī)構(gòu)解決這一重要的公共健康問題。HDXRF 將快速檢測(cè)和精確度的優(yōu)勢(shì)進(jìn)行了前所未有的結(jié)合。HDXRF 的優(yōu)點(diǎn)快速得出結(jié)果更快的測(cè)量速度使其能夠檢查更多的玩具;比傳統(tǒng)分析技術(shù)快 100 多
2019-08-23
光子計(jì)數(shù)、像素化X射線探測(cè)器(HPC)的閥值等值化(Threshold Equalization) 對(duì)Medipix1,2,3和Timepix、Timepix 3芯片來說,當(dāng)綁定傳感器芯片后,就相當(dāng)于256×256 = 65536個(gè)探測(cè)器,讀出芯片的主要作用是讀出這65K個(gè)探測(cè)器的數(shù)據(jù) – 計(jì)數(shù)值(事件數(shù)和/或時(shí)間)。而數(shù)據(jù)是基于探測(cè)到的信號(hào)與基準(zhǔn)的比較結(jié)果,基準(zhǔn)是全局閥(
2019-08-19
Medipix 3 像素布局、工作模式和像素結(jié)構(gòu)像素布局像素矩陣由256 x 256像素的方陣構(gòu)成,不同布局的2×2像素方陣組成一個(gè)簇(Cluster)。非彩色模式連接所有像素(55 μm x 55 μm)到傳感器。彩色模式僅連接上圖中的像素P1,每個(gè)像素測(cè)量110 μm x 110 μm面積。上圖給出了像素1與矩陣邊緣的距離。工作模式每個(gè)像素可配置為3種工作模式:?jiǎn)蜗袼啬J剑⊿ingle Pix
2019-08-19
微 X 射線熒光 (μXRF) 打印微 X 射線熒光 (μXRF) 是一種元素分析技術(shù),它允許檢測(cè)非常小的樣品區(qū)域。與傳統(tǒng)的 XRF 儀器一樣,微 X 射線熒光通過使用直接 X 射線激發(fā)來誘導(dǎo)來自樣品的特性 X 射線熒光發(fā)射,以用于元素分析。與傳統(tǒng) XRF 不同(其典型空間分辨率的直徑范圍從幾百微米到幾毫米),μXRF 使用 X 射線光學(xué)晶體來限制激發(fā)光束尺寸或?qū)⒓ぐl(fā)光束聚焦到樣品表面上
2019-05-09
波長(zhǎng)色散 X 射線熒光 (WDXRF)波長(zhǎng)色散 X 射線熒光 (WDXRF) 是用于元素分析應(yīng)用的兩種通用型 X 射線熒光儀器之一。在 WDXRF 光譜儀中,樣品中的所有元素同時(shí)被激發(fā)。樣品發(fā)射的特性輻射的不同能量被分析晶體或單色儀衍射到不同方向(類似于棱鏡將不同顏色的可見光分散到不同方向)。通過將檢測(cè)儀置于一定角度,可以測(cè)量具有一定波長(zhǎng)的 X 射線的強(qiáng)度。連續(xù)光譜儀使用測(cè)角儀上的移動(dòng)探測(cè)器使其移
2019-05-09
能量色散 X 射線熒光 (ED XRF)?打印能量色散 X 射線熒光 (EDXRF) 是用于元素分析應(yīng)用的兩種通用型 X 射線熒光技術(shù)之一。在 EDXRF 光譜儀中,樣品中的所有元素都被同時(shí)激發(fā),而能量色散檢測(cè)儀與多通道分析儀相結(jié)合,用于同時(shí)收集從樣品發(fā)射的熒光輻射,然后區(qū)分來自各個(gè)樣品元素的特性輻射的不同能量。EDXRF 系統(tǒng)的分辨率取決于檢測(cè)儀,通常范圍為 150 eV - 600
2019-05-09
X射線衍射 (XRD) 依賴于 X 射線的雙波/顆粒性質(zhì)來獲得關(guān)于晶體材料結(jié)構(gòu)的信息。該技術(shù)的主要用途是根據(jù)其衍射圖對(duì)化合物進(jìn)行鑒定和特性描述。當(dāng)單色 X 射線的入射束與目標(biāo)材料相互作用時(shí),發(fā)生的顯性效應(yīng)是,這些 X 射線從目標(biāo)材料內(nèi)的原子進(jìn)行散射。在具有規(guī)則結(jié)構(gòu)(即晶體)的材料中,散射的 X 射線會(huì)經(jīng)歷相長(zhǎng)干涉和相消干涉。這就是衍射的過程。晶體對(duì) X 射線的衍射遵循布拉格定律,nλ = 2dsi
2019-05-09
勢(shì)阱收集的是電子,對(duì)P-Si襯底來說,是P型半導(dǎo)體的少子。由于熱激發(fā),P型半導(dǎo)體總會(huì)有少量的電子生成,其數(shù)量與溫度密切相關(guān),230K~300K范圍內(nèi)少子數(shù)量與溫度(K)的近似關(guān)系如下: 暗電流越小越好,一般以每秒每像素多少個(gè)電子給出。Greateyes GE-VAC 1024 256 BI UV1暗噪聲0.0005 e-/pixel/sec @ -80℃熱激發(fā)產(chǎn)生的電子是一種噪聲,稱為暗噪聲(Da
2018-12-04