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新聞動態(tài)

  • 好問題比好答案更重要

    “HACKATHON”聯(lián)想 | 發(fā)現(xiàn) | 觀察| 提問| 實踐- 第一屆 -2024.09.182024年9月18日眾星聯(lián)恒第一屆“Hackathon”活動圓滿收官，此次活動旨在讓所有同事們勇敢地邁出思維的步伐，暢所欲言，促進我們內(nèi)在的自我驅(qū)動，盡情揮灑自己的創(chuàng)意與想象，無拘無束地展現(xiàn)那天馬行空般的獨特見解，放任自己仿佛回到那曾經(jīng)無知卻又無畏的孩童和少年時代。我們動員全公司的成員參與到此次活動當中

    2024-10-18 unistar

  • 眾星聯(lián)恒9月Highlights

    •FIRST•【特邀報告】XAFS學(xué)術(shù)研討會在復(fù)旦大學(xué)順利召開由眾星聯(lián)恒、復(fù)旦大學(xué)和HP Spectroscopy GmbH三方攜手舉辦的【XAFS學(xué)術(shù)研討會】在復(fù)旦大學(xué)化學(xué)院順利召開，會議特邀了來自TU Berlin（德國柏林工業(yè)大學(xué)）光學(xué)與原子物理學(xué)研究所的Christopher Schlesiger博士，和廣大學(xué)者、老師和同學(xué)就XAFS的發(fā)展歷史及現(xiàn)狀、XAFS的前沿應(yīng)用以及hiXAS精細吸

    2024-10-18 unistar

  • 一款用于EUV光化檢測的光源

    掩膜檢測的重要性掩膜檢查在半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要，特別是在光刻過程中，掩膜（也稱為光掩膜）用于將電路圖案轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體晶圓上。 1. 圖案準確性關(guān)鍵尺寸（CD， critical dimention）控制：掩膜定義了轉(zhuǎn)移到晶圓上的特征。掩膜中的任何缺陷或偏差都可能導(dǎo)致晶圓上的特征尺寸不準確，從而影響最終半導(dǎo)體器件的性能。套準精度：掩膜在曝光過程中必須與晶圓精確對準。即使是輕微的錯位也會導(dǎo)致套準誤差，影

    2024-10-18 unistar

  • 看見生命的微妙瞬間：高靈敏度CCD相機，活體成像的理想選擇

    INT可見光成像技術(shù)簡介活體成像技術(shù)是一種應(yīng)用影像學(xué)方法，對活體狀態(tài)下的生物過程進行組織、細胞和分子水平的定性及定量研究的技術(shù)。與傳統(tǒng)生物體實驗方法相比，該技術(shù)可以在不破壞活體組織的前提下，對其內(nèi)部結(jié)構(gòu)和動態(tài)生理過程進行實時、非侵入性的觀察，具有操作簡便、靈敏度高、檢測速度快等特點，在生命科學(xué)研究、藥物開發(fā)等領(lǐng)域中發(fā)揮著重要作用?？梢姽獬上窦夹g(shù)是動植物活體成像應(yīng)用最為廣泛的實驗技術(shù)，通過對同一組實

    2024-10-18 unistar

  • 八面玲瓏的X光探針：X射線顯微成像術(shù)

    一、引 言：自1895年威廉·康拉德·倫琴(Wilhelm Conrad Röntgen)發(fā)現(xiàn)X射線以來，經(jīng)過一個多世紀的發(fā)展，我們在對于X光產(chǎn)生、調(diào)制、探測和相應(yīng)的分析法及算法都有長足的進步。八面玲瓏的X光在天文、高能天體物理、科研工作中材料分析、工業(yè)生產(chǎn)中的質(zhì)控和探傷、安檢、醫(yī)療等領(lǐng)域都起著舉足輕重的作用。涉及到分析法，X射線衍射、熒光、散射，吸收成像，相襯成像，光電子能譜儀、PTY成像等等。

    2024-10-18 unistar

  • 最大化多毛細管X射線光學(xué)性能：選擇完美X射線源及其他關(guān)鍵要素

    在X射線分析系統(tǒng)中，多毛細管X射線光學(xué)器件是很有利的工具之一，尤其在需要微焦點X射線、高通量密度以及X射線平行光束的應(yīng)用場合。為了充分利用多毛細管光學(xué)器件帶來的X射線性能優(yōu)勢，選擇合適的X射線源以優(yōu)化系統(tǒng)性能至關(guān)重要。但如何挑選合適的X射線源呢？以下是搭配多毛細管光學(xué)器件時，選擇X射線源的五大要點:一、X射線光源源焦斑尺寸多毛細管光學(xué)器件的傳輸效率極大程度上取決于X射線源。由于光學(xué)器件的視場有限，

    2024-10-18 unistar

  • MiniPIX多功能探測器用于提升基于羅蘭圓幾何的X射線吸收精細結(jié)構(gòu)譜儀性能

    X射線吸收精細結(jié)構(gòu)譜學(xué)（XAFS）是一種重要的材料表征方法，通過X射線吸收、熒光發(fā)射等可以獲得材料的元素種類、價態(tài)及配位結(jié)構(gòu)等組成結(jié)構(gòu)信息。早期的高分辨X射線吸收精細結(jié)構(gòu)譜（HR-XAFS）測試主要依賴于單色性好、亮度高、連續(xù)能量可調(diào)的同步輻射光源，這極大地限制了XAFS在各領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。近年來，隨著實驗室X射線光源、高質(zhì)量彎晶及X射線探測器等X射線核心元器件的發(fā)展，基于羅蘭圓幾何、非掃描von

    2024-08-02 unistar

  • 衍射前沿 新材料紀元-第十五屆全國X射線衍射與新材料學(xué)術(shù)大會暨ICDD研討會縱覽

    第十五屆全國X射線衍射與新材料學(xué)術(shù)大會暨國際衍射數(shù)據(jù)中心（ICDD）研討會2024年7月30日，由中國物理學(xué)會X射線衍射專業(yè)委員會、中國晶體學(xué)會粉末衍射專業(yè)委員會和國際衍射數(shù)據(jù)中心等單位共同主辦的第十五屆全國X射線衍射與新材料學(xué)術(shù)大會暨國際衍射數(shù)據(jù)中心（ICDD）研討會正式落下帷幕，來自各地的X射線衍射與材料研究領(lǐng)域精英學(xué)者齊聚一堂，見證了會議主題下X射線衍射與材料分析現(xiàn)有的最新突破，促進了關(guān)于X

    2024-08-02 unistar

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